射频离子源技术

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射频离子源技术可以实现并获得较好的物理和化学性能的功能膜层

来源: | 作者:市场部 | 发布时间: 570天前 | 529 次浏览 | 分享到:

用射频离子源技术可以实现并获得较好的物理和化学性能的功能膜层,使膜层均匀致密、韧性好、光谱特性稳定、温漂小等成膜优点，射频离子源的工作原理图所示，气体通过一个专门设计的气体均匀绝缘器进入石英放电室，13.56MHz的射频功率通过LC构成的人工传输线，感应进入放电室，通过产生旋涡的周向电场离化工作气体,一般采用三栅离子光学系统，离子光学系统中存在许多小孔，屏栅作为放电室的阳极，可以吸收放电电子，构成放电回路。屏极上又存在多个小孔，屏极小孔处由于有电场，在放电等离子体边界就会形成等离子双鞘层。离子通过该弯月面鞘层发射电子，经过离子光学系统的聚焦，加速形成离子束,该离子束也必须通过中和器进行强迫中和，中和器除了中和作用外，也能提供低电压离子源的点火起弧，使ITO材料雾化，并通过350°-400°高温蒸汽蒸发将ITO材料牢固的吸附于玻璃表面成膜。