公司完成了军用屏蔽薄膜制成工艺参数的优化技术

奥科飞光电科技

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来源: | 作者:市场部 | 发布时间: 630天前 | 247 次浏览 | 分享到:

公司在对ITO膜制备的研究中发现，ITO薄膜的光学与电学性能取决于镀膜时的工艺参数，包括蒸汽分子压强、基体温度、电子束流、离子束照射时间和强度等。

蒸镀ITO薄膜属于物理气相沉积，在气相生长系统中，过饱和蒸汽是一个亚稳态相，系统中的晶膜是一个稳定相的吉布斯自由能，比稳定性相高，造成了亚稳态相转变成稳定相，气态分子沉积成膜。由气体分子运动学理论和热力学原理可知，ITO薄膜生长的驱动力，取决于蒸汽分子的分压强P，P越大，驱动力越大，沉积到基体表面的分子数量越多。在适宜的组份配比下，适当的基体温度，控制电子束流和氧分压，在离子束的照射下，在一个最佳的范围内，控制生长过程中的蒸汽压，使表面层内具有一定活性的悬挂键数量与单位时间内碰撞到基底上的分子数量平衡。公司经过长期试验分析总结了稳定的生产ITO膜的工艺参数，并形成公司的工艺规范，可以在基体玻璃上稳定制备出满足光电要求的结构牢固、致密性能稳定良好的ITO薄膜。通过该技术实现军用显示屏高效屏蔽性能；实现了军用液晶屏低温加热性能，即宽温军用液晶屏；实现了高亮液晶屏；其镀ITO薄膜后的高透过率足以实现高亮军用液晶屏&军用屏蔽液晶屏于一体的需求，为我国军用加固显示器提供光学高透过率和屏蔽及加热三效合一三个功能集成于一片镀膜玻璃的需求，该技术实现了人机交互显示页面极低反射率同时具有屏蔽功能有兼具宽温屏的低温快速加热功能，即实现了军用加固液晶屏的屏蔽&阳光下可读性。使用本公司的镀膜技术实现的屏蔽功能在军用加固显示器显示画面的时候无摩尔条纹。